일본 반도체 키옥시아, 요코하마 기술개발 거점 건설...자국내 생산 강화

일본 반도체기업 키옥시아(구 도시바메모리)가 가나가와(神奈川)현 요코하마(横浜)시내에 새로운 연구개발거점을 건설한다고 마이네비 등 일본현지매체들이 25일(현지시간) 보도했다.

요코하마시내와 가와사키(川崎)시내에 분산돼 있던 거점을 함께 모아 효율적으로 운용하고 주력사업인 플래시메모리 등의 연구와 기술개발을 추진하려는 것이 키옥시아의 새로운 연구개발 건설의 목적이라고 전문가들은 지적했다.
키옥시아측은 ‘혁신의 창출로 이어지는 일하기 좋은 환경을 정비해 제품 품질을 강화하는 외에 미래 인원 증원에도 대응해 제품개발을 강화하게 됐다“고 말했다.

지난 2월에는 미에(三重)현 요카이치(四日)시 공장에서 3차원 플래시메모리의 생산능력의 확충을 위해 제7제조단지의 기공식을 가졌다. 공사는 2기로 나누어서 진행되며 2022년 봄에 1기 준공식이 예정돼 있다. 이밖에 이와테(岩手)현 기타가미(北上)시 공장에도 지난해 12월에 공장인근 부지 13만6000평방미터를 확보해 2022년 봄을 목표로 새로운 제조시설 건설에 착수할 예정이다.

다만 최근 삼성전자와 SK하이닉스 등 한국반도체업체의 공세와 더불어 중국도 국책사업으로 반도체산업을 강화하고 있어 키옥시아를 둘러싼 영업환경은 시시각각 변하고 있다.

또한 현재 대만 TSMC 등 많은 반도체 제조거점들이 집약된 대만에서는 지난해부터 가뭄으로 심각한 물부족에 직면해 있다. 대량의 물을 사용하는 반도체의 생산에 지장을 초래하게 된다면 앞으로 자동차와 전자제품의 생산계획에도 영향을 미칠 것으로 보인다.

미중 갈등이 격화하고 있고 경제안전보장의 관점에서 전세계적으로 반도체 공급망을 재검토하려는 움직임이 진행되고 있는 상황에서 키옥시아의 이번 투자는 일본내 생산능력 강화라는 의미를 갖고 있다고 전문가들은 지적했다.


박경희 글로벌이코노믹 기자 hjcho1017@g-enews.com