중국, 28나노 리소그래피 장비 독자 개발 성공

중국에서 가장 성공적인 리소그래피 스캐너 제조업체인 상하이 마이크로 일렉트로닉스 장비(SMEE)가 이번 주에 28나노(nm)급 제조 공정에서 칩을 생산할 수 있는 첫 번째 스캐너를 올해 연말까지 납품할 계획이라고 테크와이어 아시아가 5일(현지시간) 보도했다.

현재 SMEE가 보유한 가장 진보된 스캐너는 90나노 이상의 두꺼운 제조 공정만 가능하기 때문에 SSA/800-10W 스캐너는 획기적인 기술로 평가된다. 28나노를 지원하는 리소그래피 장비를 통해 중국 칩 제조업체는 시간이 지남에 따라 다양한 성숙한 기술을 위해 국내 리소그래피 장비에 의존할 수 있게 될 것으로 전망된다.

중국은 반도체 자급자족을 달성하고 외국 기술에 대한 의존도를 줄이기 위해 노력하고 있다. 그 일환으로 SMEE는 28나노급 제조 공정에서 칩을 생산할 수 있는 스캐너를 개발하고 있다. 그러나 SMEE가 이 스캐너를 대량으로 생산할 수 있을지, 그리고 언제쯤 ASML, 캐논, 니콘의 장비를 대체할 수 있을지는 아직 미지수이다.

미국 정부의 최신 수출 규제로 인해 중국 칩 제조업체는 14나노 이하의 비평면 트랜지스터 로직 칩, 127개 이상의 활성 레이어를 가진 3D 낸드 칩, 18나노보다 작은 하프 피치의 D램 IC를 만드는 데 필요한 도구와 기술을 얻을 수 없게 되었다. 네덜란드, 일본, 대만의 규제도 중국 기업들의 첨단 도구에 대한 접근을 제한하고 있다. 이러한 제한으로 인해 중국 기업들은 최신 제조 공정을 사용하여 칩을 생산하는 능력이 저하되고 있다.
중국은 칩 제조업체가 14나노와 같은 최첨단 공정 기술에서도 칩을 생산할 수 있도록 하기 위해 국내 고급 리소그래피 도구가 필요하다. 현재로서는 상하이 마이크로 일렉트로닉스 장비가 28나노급 SSA/800-10W 스캐너를 출시할 예정이다. 이 스캐너는 SMIC 또는 칩 연구소에 납품될 예정이다.

칩 제조업체가 새 스캐너를 생산 흐름에 통합하는 데는 다소 시간이 걸릴 것으로 예상된다. 그러나 SMEE가 충분한 수의 장비를 생산할 수 있다면 가능할 것이다.


노정용 글로벌이코노믹 기자 noja@g-enews.com