삼성전자, 2030년까지 시스템 반도체에 171조원 투자

삼성전자가 기존에 수립한 133조원 반도체 분야 투자 계획에 38조원을 더해 총 171조원 규모의 반도체 투자 계획을 밝혔다고 로이터가 13일(현지시간) 보도했다.
추가된 투자금은 첨단 파운드리 공정 연구개발과 생산라인 건설에 집중될 예정이다.

삼성전자는 13일 평택캠퍼스에서 열린 ‘K-반도체 벨트 전략 보고대회’에서 이 같은 내용의 투자계획을 발표했다. 삼성전자는 이에 따라 시스템반도체 리더십 조기 확보를 위해 2년여 전 ‘시스템반도체 비전 2030’ 발표 당시 수립한 133조 원의 투자계획에 38조 원을 추가해 2030년까지 총 171조 원을 투자하고 첨단 파운드리 공정 연구개발과 생산라인 건설에 더욱 박차를 가하기로 했다.

삼성전자는 이를 위해 그동안 팹리스(반도체설계), 공급망의 핵심인 소재·부품·장비 업체, 우수 인재 육성을 담당하는 학계 등 우리나라 반도체 생태계 주요 구성원 간의 상호 협력을 활성화하고는 등 비전 달성을 위한 기반도 다져 왔다. 최근 모든 산업영역에서 전례 없는 반도체 부족 사태가 빚어지고 각국 정부가 미래 산업의 핵심인 반도체 공급망 유치를 위해 경쟁하는 상황에서 삼성전자의 시스템반도체 투자 확대는 ‘K-반도체’의 위상을 한층 더 높이는 데 기여할 것으로 기대된다.

삼성전자는 상생협력과 지원, 투자도 더욱 확대키로 했다. 특히 시스템반도체 생태계 육성을 위해 팹리스 대상 지적재산권(IP) 호혜 제공, 시제품 생산 지원, 협력사 기술교육 등 다양한 상생 활동을 더욱 확대하고 공급망 핵심인 소재·부품·장비 업체는 물론, 우수 인재 육성을 위한 학계와의 협력을 더욱 강화해 나갈 예정이다.

특히 파운드리 분야는 사업이 커지면 커질수록 국내 팹리스 기업들의 성장 가능성이 커지고, 많은 팹리스 창업이 이뤄지고 전반 시스템 반도체 산업의 기술력이 업그레이드되는 부가 효과를 유발한다. 삼성전자의 파운드리 사업 확대는 5세대(G), 인공지능(AI), 자율주행 등 우리나라 미래 산업의 밑거름 역할을 할 것으로 기대된다.

한편 2022년 하반기 완공될 평택 3라인의 클린룸 규모는 축구장 25개 크기다. 현존하는 최첨단의 기술이 적용된 팹으로, EUV 기술이 적용된 14나노 D램과 5나노 로직 제품을 양산한다. 모든 공정은 스마트 제어 시스템에 의해 전자동으로 관리된다. 평택캠퍼스는 세계 최대 규모의 반도체 클러스터로서 최첨단 제품을 양산하는 전초기지이자 글로벌 반도체 공급기지로서의 주도 역할이 더욱 강화될 전망이다.

김수아 글로벌이코노믹 해외통신원 suakimm6@g-enews.com