삼성·ASML, 차세대 노광기술 공동 개발 나선다…국내 R&D센터 설립

삼성전자가 네덜란드 ASML과 손잡고 기술협력을 강화한다. 국내에 극자외선(EUV) 공동 연구소를 설립해 차세대 노광장비 개발을 추진한다. ASML이 제조 시설이 없는 해외에 R&D(연구·개발) 시설을 설립하는 것도 처음이다. 이번 계약으로 삼성전자는 차세대 메모리 개발을 위한 원천기술 확보와 반도체 생태계 확보에 성공함으로써 메모리 분야 ‘초격차’ 전략을 이어나간다는 전략이다.

삼성전자와 ASML은 12일(현지 시간) 네덜란드 ASML 본사에서 1조원을 투자해 한국에 ‘EUV 공동 연구소’를 설립하기로 양해각서(MOU)를 체결했다. 국내 수도권에 설립 예정인 EUV 공동 연구소는 반도체 초미세 공정에 필수인 EUV 장비를 기반으로 초미세 제조 공정을 공동 개발하게 된다.

삼성전자와 협력하는 ASML은 노광장비 생산 전 세계 1위 기업으로 최첨단 기술을 보유하고 있다. 반도체 공정의 하나인 노광 공정은 웨이퍼에 미세하고 복잡한 전자회로를 인쇄하는 과정이다. 통상 nm(나노미터, 1㎚는 10억분의 1ｍ) 단위의 작은 공정에서 반도체를 생산할수록 집적도가 높아 성능과 효율이 높아진다.

삼성전자와 ASML이 공동으로 EUV를 연구한다는 점은 시사하는 바가 크다. 그동안 ASML은 EUV 노광장비를 독점으로 공급해왔다. 특히 7nm 이하 반도체 초미세 공정에 ASML의 장비가 꼭 필요해 업계에서는 ‘슈퍼 을(乙)’로 불려왔다. AMSL의 장비를 누가 더 많이 확보하는가에 따라 기업의 경쟁력이 평가받을 정도였다.
현재, 삼성전자의 경쟁업체인 TSMC는 2nm 기술 확보를 위해 ASML의 장비 확보에 총력을 기울이고 있는 상황이다. 업계는 TSMC가 대만 생산공장에 100대 이상의 EUV 장비를 확보하고 있고, 삼성전자는 40여 대 정보를 확보하고 있을 것으로 추정한다. 삼성전자가 ASML과 손잡게 되면서 그동안 약점으로 지적받아 왔던 국내 반도체 장비와 소재 분야에 상당한 도움이 될 것으로 전망된다.

정부 차원에서도 삼성전자와 ASML의 협력을 지원한다는 방침이다. 이종호 과학기술정보통신부 장관은 “과거에 한국과 네덜란드가 협력 관계였다면 이제 반도체 분야에서는 동맹 관계로 발전했다”면서 “ASML로부터 EUV 장비를 공급받는 측면에서도 한국 기업에 이익이 될 것으로 생각한다”고 말했다.


장용석 글로벌이코노믹 기자 jangys@g-enews.com