2024.07.12 05:51
일본 반도체 장비 기업 도쿄일렉트론(TEL)이 극자외선(EUV) 공정의 한계를 극복할 수 있는 새로운 기술을 선보였다. EUV 공정은 첨단 반도체 생산에 필수적인 기술이지만, 미세화가 진행될수록 발생하는 여러 문제점으로 인해 수율 확보에 어려움을 겪고 있다.11일(현지시간) 톰스하드웨어에 따르면 도쿄일렉트론이 개발한 '아크레비아(Acrevia)'는 EUV 공정 후 패턴을 정교하게 다듬는 가스 클러스터 빔(GCB) 시스템이다. 기존 EUV 공정에서는 더 미세한 회로를 구현하기 위해 '더블 패터닝'이라는 복잡한 과정을 거쳐야 했지만, 아크레비아는 이 과정을 생략하거나 줄일 수 있어 생산 비용 절감 및 수율 향상 효과가 기대된다.아크레비아는 웨이2018.10.18 13:35
삼성전자가 극자외선(EUV) 노광 장비를 적용한 7나노(7LPP) 공정 개발을 마치고 생산에 돌입한다. 대만 TSMC가 독주 체제를 굳히고 있는 파운드리 시장에 균열을 낼지 주목된다. 삼성전자 DS부문 미주총괄 밥 스티어(Bob Stear) 시니어 디렉터는 18일(현지시간) 미국 실리콘밸리에 위치한 삼성전자 미주법인(DSA)에서 열린 ‘삼성 테크 데이 2018’에서 이같이 밝혔다.그는 “7LPP 공정은 삼성전자가 EUV 노광 기술을 적용하는 첫 번째 파운드리 공정”이라며 “삼성전자는 이번 생산을 시작으로 7나노 공정을 본격 상용화하고 향후 3나노까지 이어지는 공정 미세화를 선도하게 됐다”고 설명했다.반도체 공정이 10나노 이하로 접어들며 기존에 사1
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