中, 반도체 과제 목록서 '리소그래피' 쏙 빼... 美 제재 효과 축소 의도?

중국이 자체 반도체 산업 발전을 위한 과제 목록을 발표하면서 핵심 기술인 리소그래피를 의도적으로 누락했다는 의혹이 제기되고 있다. 이는 미국의 대중 반도체 제재 효과를 축소하려는 정치적 의도가 깔려 있다는 분석이다.

9일(현지시간) 톰스하드웨어에 따르면 중국과학기술협회(CAST)는 최근 중국 반도체 산업이 직면한 과제를 나열하면서 리소그래피 기술을 언급하지 않았다. 리소그래피는 첨단 반도체 제조에 필수적인 기술로, 네덜란드 ASML이 독점하고 있다. 중국은 자체 리소그래피 장비 개발에 나섰지만, 아직 기술 수준이 미흡하여 ASML 장비에 크게 의존하고 있다.

미국은 최근 첨단 반도체 제조에 사용되는 극자외선(EUV) 리소그래피 장비뿐만 아니라 관련 서비스까지 중국 수출을 금지했다. 이로 인해 중국은 기존에 구매한 장비 유지 보수에도 어려움을 겪고 있으며, 첨단 반도체 생산에 큰 차질을 빚고 있다.

하지만 중국은 리소그래피 기술 부재를 공식적으로 인정하지 않고 있다. 시진핑 주석은 과거 네덜란드 총리에게 "중국 기술 발전에 ASML이 필요 없다"고 말한 바 있으며, 이번 과제 목록에서도 리소그래피를 제외하며 미국의 제재 효과를 축소하려는 모습을 보이고 있다.
전문가들은 중국이 리소그래피 기술 자립을 위해 노력하고 있지만, 단기간에 성과를 내기는 어려울 것으로 전망한다. 일부 전문가들은 중국 기업들에게 첨단 칩 생산 대신 기존 칩과 3D 패키징 기술에 집중할 것을 권고하고 있다.

하지만 화웨이 등 일부 중국 기업들은 여전히 리소그래피 기술 개발에 막대한 투자를 하고 있으며, RISC-V와 같은 개방형 표준 기술을 활용하는 방안도 모색하고 있다.

중국 반도체 산업이 리소그래피라는 난관을 극복하고 자립을 이뤄낼 수 있을지, 아니면 미국의 제재로 인해 첨단 반도체 개발에 차질을 빚을지 귀추가 주목된다.


노정용 글로벌이코노믹 기자 noja@g-enews.com