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SK하이닉스, HBM 발열 잡는 ‘iHBM’ 기술 공개…열 저항 30%↓

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SK하이닉스, HBM 발열 잡는 ‘iHBM’ 기술 공개…열 저항 30%↓

HBM 패키지 내 냉각 요소(ICE) 넣어 발열 집중 구간 열 방출 경로 개선
SK하이닉스가 공개한 `iHBM 설루션` 개념도. 사진=SK하이닉스이미지 확대보기
SK하이닉스가 공개한 `iHBM 설루션` 개념도. 사진=SK하이닉스
SK하이닉스가 고대역폭메모리(HBM)의 발열을 낮출 수 있는 냉각 기술을 공개했다.

SK하이닉스는 26일 고대역폭메모리(HBM) 패키지에 일체형 냉각 요소 'ICE'를 내재해 발열을 획기적으로 낮춘 ‘iHBM’ 기술을 선보였다. ICE란 전기는 통하지 않지만 열 전도가 높은 실리콘 소재를 활용해 HBM 패키지 내부에 추가적인 열 배출 경로를 형성하는 냉각 요소다.

폭증하는 AI 연산 수요 대응을 위해 HBM은 적층 단수 확대와 고속화를 거듭하며 성능이 발전하고 있지만 동시에 발열이 높아지는 문제가 발생할 수 있다. 이에 HBM과 그래픽처리장치(GPU)를 연결하는 D2D PHY 구간의 발열 밀도를 효과적으로 제어하는 기술이 차세대 HBM 기술 경쟁력의 핵심으로 부상하고 있다.

iHBM 기술은 이 문제를 구조적으로 해결한 것이 특징이다. 기존 HBM은 열을 코어 다이를 거쳐 외부로 내보내는 간접적인 방식에 의존해 왔다. iHBM은 발열이 가장 집중되는 D2D PHY 영역 안에 열 제어 소자(ICE)를 넣어 열이 빠져 나갈 수 있는 전용 경로를 별도로 만든 것이 핵심이다. 기존 대비 열저항을 30% 이상 낮추고 고온·고부하 환경에서도 안정적인 동작 특성을 유지할 수 있다.
양산성 측면에서도 강점을 갖췄다. 이미 시장에서 검증된 어드밴스드 매스리플로우-몰디드언더필(MR-MUF) 기반 WLP 공정을 적용해 안정적인 대량 생산이 가능하다. 고객사의 기존 SiP환경과 높은 설계 호환성을 확보한 만큼 고객들은 큰 설계 변경 없이 즉시 적용이 가능해 실질적인 도입 부담도 낮췄다.

SK하이닉스는 iHBM 기술을 HBM5 등 차세대 제품부터 적용해 고성능 컴퓨팅(HPC), AI 데이터센터 등 초고집적·초고대역폭 환경에서 요구되는 열 관리 수준을 충족하며 시스템 전반의 안정성과 운영 효율을 높인다는 계획이다.

이강욱 SK하이닉스 부사장(PKG개발 담당)은 "iHBM은 메모리 설계 역량과 첨단 패키징 기술을 결합해 개발한 발열 최소화를 위한 최적의 설루션"이라면서 "AI 환경에서 고객이 필요로 하는 가치를 선제적으로 제공하며 AI 메모리 리더십을 더욱 공고히 하겠다“고 말했다.


장용석 글로벌이코노믹 기자 jangys@g-enews.com