
서울경찰청 산업기술안보수사대는 6일 삼성전자와 하이닉스 반도체 부문 임원을 지낸 최모(66) 씨와 전직 삼성전자 수석연구원 오모(60) 씨를 산업기술법 위반과 부정경쟁방지 및 영업비밀보호법 위반 혐의로 전날 구속했다고 밝혔다.
이들은 삼성전자가 2014년 독자적으로 개발한 20나노 D램 반도체 기술 공정도 700여개를 무단 유출해 중국 기업인 청두가오전의 제품 개발에 사용하게 한 혐의를 받는다. 경찰은 구속 수사를 통해 구체적인 유출 경위와 정확한 피해 범위, 이들이 챙긴 경제적 이익 여부 등을 파악할 방침이다.
홍석경 글로벌이코노믹 기자 hong@g-enews.com