“삼성 가치사슬 핵심 안착”… 솔브레인 테일러 화학공장, 美 주 정부 1,160만 불 보조금 획득

국내 대표 반도체 핵심 소재 기업인 솔브레인(Soulbrain)이 미국 텍사스주 테일러시에 구축 중인 첨단 화학 공장 프로젝트와 관련해 미국 주 정부로부터 파격적인 대규모 현금 보조금을 전격 확보했다.

4일(현지시간) 오스틴 비즈니스 저널(Austin Business Journal)에 따르면, 솔브레인 홀딩스 주식회사는 텍사스 주 정부로부터 총 1,160만 달러(약 180억 원) 규모의 주 정부 차원 투자 보조금을 수령한 것으로 확인됐다.

이번 보조금 획득은 솔브레인이 미국 내 첫 생산 거점으로 낙점한 테일러시 공장의 인프라 안착에 기여하는 것은 물론, 파운드리(반도체 위탁생산) 거점을 다지고 있는 삼성전자와의 고도화된 글로벌 공급망(가치사슬) 밀착을 한층 더 공고히 하는 계기가 될 전망이다.


솔브레인의 미국 법인이 추진 중인 이번 테일러 화학 공장 건설 사업은 회사 역사상 최초의 미국 현지 생산 시설이라는 점에서 글로벌 반도체 업계의 이목이 쏠린 프로젝트다. 솔브레인 홀딩스는 미국 본사 역할을 겸하게 될 이번 테일러시 생산 기지에 총 6억 7,500만 달러(약 1조 원) 규모의 매머드급 자본 투자를 단행하고 있다.
공장이 들어서는 'RCR 테일러 물류 공원(RCR Taylor Logistics Park)'은 첨단 인프라와 물류 이점을 앞세워 공격적인 북미 영토 확장을 노리는 글로벌 대기업들의 핵심 타깃으로 부각되고 있는 지역이다.

솔브레인은 이곳에 대규모 부지를 확보하고, 미국의 반도체 자급제 기조와 자원 안보 해자 구축 흐름에 발맞춰 가장 고도화된 화학 소재 정제 라인을 건설 중이다.


이번 프로젝트의 핵심인 1단계 공장은 반도체 제조 공정의 핵심 중의 핵심으로 꼽히는 고선택성 및 고순도 인산(Phosphoric Acid) 생산 라인을 구축하는 데 초점이 맞춰져 있다. 고순도 인산은 반도체 웨이퍼의 세정(Cleaning) 및 식각(Etching) 공정에서 미세 회로를 깎아내고 불순물을 제거하는 데 필수적으로 사용되는 초정밀 화학 물질이다.

솔브레인은 1단계 라인을 통해 연간 약 2만 8,800톤 규모의 고순도 인산 생산 능력을 갖출 계획이다. 인공지능(AI)과 초고성능 컴퓨팅(HPC) 칩 수요 폭발로 3나노(nm) 이하 첨단 미세공정의 중요성이 날로 커지는 가운데, 솔브레인이 최고 난도의 정제 기술이 필요한 인산의 현지 밸류체인을 완벽히 확보하게 된 셈이다.

투자은행(IB) 및 반도체 업계 전문가들은 이번 보조금 수령과 대규모 투자가 삼성전자 테일러 파운드리 공장의 안정적 가동을 뒷받침하는 결정적 퍼즐이 될 것으로 분석한다. 반도체 공정에 쓰이는 초고순도 화학물질은 미세한 변질도 수율에 치명타를 입히기 때문에, 공장 인근에서의 '적기 공급(Just-In-Time)' 체계가 무엇보다 중요하다.

솔브레인이 테일러시에 직접 6억 7,500만 달러를 투입해 생산라인을 완비함에 따라, 지척에 위치한 삼성전자 테일러 파운드리 신공장은 고순도 인산 등 핵심 소재를 완벽하게 락인(Lock-in)하며 공급망 리스크를 원천 차단할 수 있게 됐다.

통상 전문가는 "미국 정부의 반도체법(Chips Act) 및 조세 인센티브 흐름 속에서 주 정부의 1,160만 달러 보조금까지 더해지면서 솔브레인의 투자 대차대조표가 획기적으로 개선됐다"며, "K-반도체의 대기업과 소부장 기업이 동반 진출해 미국 텍사스 현지에 견고한 반도체 에코시스템을 구축하는 가장 모범적인 선례가 될 것"이라고 진단했다.


신경원 글로벌이코노믹 기자 shincm@g-enews.com