아이에스티이, SK하이닉스 성과공유 행사서 PECVD 장비 국산화 성과 발표

코스닥 상장사 아이에스티이(대표 조창현)가 SK하이닉스가 주관한 '기술혁신기업 성과 공유 및 협약 체결식’에서 반도체 핵심 공정장비인 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 데모 장비의 성과를 공유했다고 25일 밝혔다.

지난 22일 SK하이닉스 이천 본사에서 열린 이번 행사에는 기술혁신기업 7기 성과 발표와 8기 협약식이 함께 진행됐다. 아이에스티이는 2023년 7기 기업으로 선정돼 CVD(화학기상증착) 장비 국산화 성과를 소개했다.

SK하이닉스 곽노정 CEO는 "기술혁신기업과의 공동 개발을 통해 의미 있는 성과가 창출되고 있다"며 "앞으로도 심화된 기술 협업을 통해 업계 리더로서 입지를 강화하고 협력사들과 동반 성장을 이어가길 바란다"고 말했다.
아이에스티이 진병주 부사장은 "이번 성과는 지난해 납품을 시작한 반도체 SiCN 공정용 PECVD 장비로, 품질 신뢰성과 양산 테스트를 거쳐 고객과 업계에 성과를 공유한 것"이라고 설명했다.

조창현 대표는 "국내 반도체 장비 시장 40여 년 역사에서 PECVD 장비 국산화에 성공한 것은 의미 있는 일"이라며 "협력사와 임직원의 노력 덕분에 어려운 기술을 완성할 수 있었다"고 소감을 밝혔다.

아이에스티이는 지난 1월 증권신고서에서 SK하이닉스에 SiCN 공정용 PECVD 장비를 공급했다고 밝히며, 2024년 Qual Test 완료 후 양산 평가를 통해 본격적인 사업화를 추진할 계획이라고 설명한 바 있다.


정준범 글로벌이코노믹 기자 jjb@g-enews.com

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